舟山直接成像-迪盛微电子-友迪激光科技

DI直接成像曝光机

1、技术优势：

所有MIVA 位图影像系统使用的曝光程序，使用率半导体光源系统和高解析度的光学模组，激光数字成像曝光机，此系统将高清晰度的影像转移至感光基材，舟山直接成像，根据产品需求解析度可从3000DPI 到128000DPI，光学头在板材上方连续移动曝光，友迪激光科技，高解析度的线性电机和光学尺可实现的位置控制。

2、耗电低：

待机时只需消耗350W，曝光时消耗2.5KW，这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。

在印制电路板工业中，激光直接成像系统引起了顺序的结构、后备资源和数据存储设备的根本性变化。激光直接成像系统取代了印制电路板制造业中所有的曝光系统，通常传统的胶片曝光系统和光绘仪所完成的任务也可由激光直接成像系统代替。控制机器完成必需任务的软件很容易设计，且所有的CAD 系统使用相同的列表工作，每一个印制电路板都有同样的材料规范。将来，激光直接成像系统的使用可能会完全减少电子装配的时间，这既是非常好的又是非常可行的解决方案。

晒版机（曝光机）的工作原理及操作步骤

晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。

（1 ）曝光控制系统带定时器的晒版机其重复曝光时间误差应小于±1%。检测方法：用秒表测量晒版机的实际曝光5分钟的时间3次，记录晒版机的实际曝光时间Ti，计算3次曝光时间平均值T，按公式δ=[1-(|Ti-T| max)/T]×计算重复曝光时间误差δ。