





真空镀膜是一种在真空环境下,利用各种物理方法将金属、非金属、化合物等材料沉积在基底表面,形成薄膜的技术。真空镀膜技术广泛应用于电子、光学、装饰、防腐蚀等领域,具有精度高、附着力强、耐腐蚀等特点,是现代制造和研发中不可或缺的关键技术之一。
真空镀膜的原理是基于物理气相沉积(Physical Vapor Deition,简称PVD)技术,即在真空环境下,利用各种物理方法如电子束蒸发、激光束蒸发、离子束溅射等将材料加热至熔点或升华点以上,使其形成蒸汽流并沉积在基底表面,终形成薄膜。
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