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钢研纳克江苏检测技术研究院有限公司

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公司官网:www.sparkncs.cn
企业地址:昆山市经济技术开发区前进东路158号
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钢研纳克检测技术股份有限公司(上市代码:300797)是**企业中国钢研科技集团有限公司(钢铁研究总院)的二级单位,从事分析仪器装备和分析检测技术的研究、开发和应用的高新技术创新型企业。目前公司提供的主要服务或产品包括分析检测仪器、第三方检测服务、标准物质/标准样品、能力验证服务等检测相关产品与延伸......

国产ICP-MS质谱仪厂家

产品编号:100119977012                    更新时间:2025-09-16
价格: 来电议定
钢研纳克江苏检测技术研究院有限公司

钢研纳克江苏检测技术研究院有限公司

  • 主营业务:直读光谱仪ICP光谱仪ICPMS碳硫分析仪氧氮分析仪
  • 公司官网:www.sparkncs.cn
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视频作者:钢研纳克江苏检测技术研究院有限公司





这些干扰要有效识别和消除 ICP-MS 质谱仪中的干扰,可以采取以下一些方法

干扰校正方程:通过建立干扰校正方程,利用已知的干扰元素和目标元素的关系,对干扰进行校正。

内标法:使用内标元素来监测和校正信号的变化,以补偿基体效应和其他干扰。

碰撞/反应池技术:利用碰撞/反应池来去除或降低多原子离子、分子离子等干扰。

选择合适的质量数:避免选择受到严重干扰的质量数,或者采用高分辨率质谱仪来区分干扰和目标离子。

优化仪器参数:调整射频功率、离子源气体流量等参数,以减少干扰的影响。

样品前处理:适当的样品前处理方法可以去除干扰物质,如稀释、萃取、净化等。

同位素比值测量:通过测量同位素比值,可以消除一些干扰的影响,并提供的分析结果。

质量筛选:利用质量筛选技术,只监测特定质量数范围内的离子,减少干扰的干扰。

数据处理方法:采用合适的数据处理软件和算法,如背景扣除、平滑、校正等,来校正干扰。

标准加入法:通过添加已知浓度的标准物质到样品中,校正基体效应和干扰。

识别和消除干扰需要综合考虑多种方法,并根据具体的分析需求和样品特点选择合适的策略。同时,定期进行质量控制和方法验证也是确保干扰得到有效校正的重要步骤。




为了使 ICP-MS 质谱仪能够准确地分析样品,需要进行适当的样品前处理,需要进行适当的样品前处理,以将待测元素从基体中电离出来,并将其转化为易于电离的形式。常用的前处理方微波括湿法消解、干法灰化、微波消解等。

湿法消解是将样品与酸或碱等试剂混合,在高温下进行消解,以将待测元素从基体中分离出来。干法灰化是将样品在高温下进行灰化,以将待测元素从基体中分离出来。微波消解是将样品在微波炉中进行消解,以将待测元素从基体中分离出来。

在进行样品前处理时,需要注意以下几点:

选择适当的前处理方法:根据样品的性质和待测元素的性质,选择适当的前处理方法。

控制样品的量和浓度:样品的量和浓度会影响 ICP-MS 质谱仪的分析结果,因此需要控制样品的量和浓度,以保证分析结果的准确性。

避免污染:在进行样品前处理时,需要避免污染,以保证分析结果的准确性。

控制消解温度和时间:消解温度和时间会影响 ICP-MS 质谱仪的分析结果,因此需要控制消解温度和时间,以保证分析结果的准确性。

进行空白对照实验:在进行样品前处理时,需要进行空白对照实验,国产ICP-MS质谱仪厂家,以保证分析结果的准确性。

总之,为了使 ICP-MS 质谱仪能够准确地分析样品,需要进行适当的样品前处理,以将待测元素从基体中分离出来,并将其转化为易于电离的形式。在进行样品前处理时,需要注意选择适当的前处理方法、控制样品的量和浓度、避免污染、控制消解温度和时间、进行空白对照实验等。




PLASMAMS 300 的进样系统包括了蠕动泵(Peristaltic Pump)、(Nebulizer)。每个部件都关

系到能否都将样品以恒定准确的速率传递到离子源(Plasma)处。这些部件在不同设置、 不同条件下,都会影响到灵敏度、背景、稳定性、以及由气体引入的干扰物。

蠕动泵(Peristaltic Pump):

泵管??? (Pump Windings) – 噪音的来源 样品提升速率 – 影响氧化物水平以及的稳定性

样品冲洗 – 需要时候用正确的泵管(winding)和冲洗时间(rinse time)

使用磨损过度的泵管或者泵管夹的压力不正确,都会导致噪音的产生,进而影响检测信号 的稳定性。因此,应该保证泵管的位置和压力都在正常条件下,并且不使用的时候,需要

松开张紧轮(tensioners)或泵管夹(platens),并且将泵管的一端卡子从卡槽卸下,让泵管

放松。

样品以什么速率被传输到非常重要。不同由于制造参数不同,其对应的 性能流速也是不一样的。如果泵速过高,会影响信号稳定性,并且会导致氧化物(Oxides, 基于气体产生的干扰)产率升高。


 

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