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集中供气系统

集中供气系统又称中央供气系统（Central Gas Supply System），是一种越来越普遍被人们采用的一种供气方式。它主要是由气源，气体管路设计，切换装置，调压装置，终端用气点，监控及报警装置组成。

简而言之，集中供气系统将中央储气设备中的气体经切换装置并调压后通过管路系统输送到各个分散的终端用气点。工厂车间和实验室过去分散的钢瓶供气方式变得越来越过时并逐渐被废弃不用。当代大型工厂车间中的各类耗气设备和大多数实验室中的各种分析仪器如色谱仪或质谱仪都需要连续使用载气和燃料气，因此车间和实验室的管理者需要考虑如何实现这些气体的连续、稳定和安全的供给，可以用高压钢瓶、液体杜瓦瓶、集中供气系统或综合上述几种方法来进行供气。基于安全和效率因素，不考虑经仪经济性因素，集中供气系统变得越来越普遍，并成为当今实验室设备中高纯气体的可靠连续的供应源。在某些情况下，当地消防规范建议甚至要求将主要的气体源如钢瓶、杜瓦瓶和液体储槽

放置在工作区外的指i定区域，然后将气体通过管道系统输送至厂房内，并可通过安装在工作台上的使用点二级减压器方便地调节压力和流量。

高纯气体管道配管

所有高纯度、高洁净的气体均需通过管路输送到设备用点(POU)，为了达到工艺对气体的质量要求，在气体出口指标一定的情况下，则更需重视配管系统的材料选用和施工质量。除取决于制气或净化设备的精度外，在很大程度上受到管路系统诸多因素的影响，因此，管材的选取应恪守相关行业原则，并在图纸中注明管道材质。

管路的材质则依使用的需求进行选择，气体管路设计价格，若为制程用的反应气体则选择高等级的316L EP管，经电解拋光(Electro-Polish)处理，耐腐蚀，表面粗糙度低，Rmax(maximum peak to valleyheight)约为0.3μm以下，其值远低于经过光辉烧结(Bright Anneal)处理之316L BA管的0.8μm，因平整度越高越不容易形成微涡流，而将污染粒子带出。316L BA管则常使用于和芯片接触但不参与制程反应的气体，如GN2、CDA。管内表面粗糙度是衡量管材质量的标准。粗糙度越低，其颗粒携带可能性大大降低。另一种未经特殊处理的AP管(Annealing & Picking)，则用于不做为供气管路的双套外管。

气体管道安装

气体管道（gas pipeline）包括控制阀门、过滤器、减压装置、压力表、流量计、在线分析仪等，气体管路设计厂商，宜集中设在气体入口室。气体经鼓风机、压缩机、泵和锅炉等增压后，从管道的高压处流向低压处，也可利用气体自身的压力或重力输送。当气体的流量已知时，管径的大小取决于允许的流速或允许的摩擦阻力(压力降)。流速大时管径小，但压力降值增大。但泵和压缩机等动力设备的运行能耗费用增大。此外，如果流速过大，还有可能带来一些其他不利的因素。因此管径应根据建设投资、运行费用和其他技术因素综合考虑决定。