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ICP-MS分析流程的建立

对于一种新基体的样品来说，常规的分析路径如下：

1.  酸化或溶解样品

样品一般需要行酸化溶解使目标元素溶解在液体中.

2.  选择目标分析物和目标同位素

根据浓度范围来选择分析物和同位素。

3.  行扫描以便识别出存在的干扰

可以行半定量扫描，可以通过半定量扫描判断大致存在哪些元素以及各个元素 的大致浓度范围。

4.   选择数据的采集模式以及校正曲线的类型

一般如果使用连续流的数据采集模式，会使用外标定量法。也有其他的数据评估方

法可以使用。

5.  选择合适的内标元素

内标元素的使用可以校正由于时间或基体抑制效应引起的信号漂移。

6.  能进行基体匹配

将标样的基体匹配到和您的样品基体完全一致，可以将两者之间的差异减小到小， 并且有助于得到更为准确的结果数据。

7.  进行质量控制校正（QC check）

在分析过程中插入另一来源的标样(2nd  Source Standard)或者有证标准物质 (Certified Reference Material)，确保数据的完整性。

电感耦合等离子体质谱法测定化妆品中的37种元素

立电感耦合等离子体质谱法测定化妆品中37种元素的检测方法，根据化妆品不同基质，选用-微波消解体系或-湿法消解体系，采用在线内标及碰撞反应池技术校正机体效应，外标法

定量进行ICP-MS测定。方法检出限1 ~ 80瞄/kg，线性相关系数均大于0.997， RSD为1.0% - 8.9%， 加标回收率为81.3% ~ 115.2%。实验结果表明，该方法简便、快速、灵敏度高、准确性好，适用于化妆品中37种元素的同时测定。

钢研纳克国产ICP-MS具有多元素同时检测的优势，灵敏度高、 线性范围宽，既适用于样品中痕量元素的检测也能同时满足微量元素的测定。ICP-MS分析中干扰问题是影响分析 结果准确度和精密度的障碍，其主要的干扰方式分为质谱干扰、基体干扰和物理效应干扰三大类。质谱干扰

可通过选择合适的同位素离子及仪器校正消除；物理干扰可通过清洗雾化室，进样锥及进样管路消除；基体干扰 是指复杂的基体引起的ICP平衡的转变，对待侧元素的质谱信号产生抑制或增应，可采用加入内标元素校正

和采用碰撞/反应池技术消除。针对化妆品的不同剂型，应用微波消解和湿法消解体系，建立了电感耦合等离子体 质谱对8类化妆品中37种元素的测定方法，为化妆品中重金属及其他有害元素的监测提供了技术支持。

这些干扰要有效识别和消除 ICP-MS 质谱仪中的干扰，可以采取以下一些方法

干扰校正方程：通过建立干扰校正方程，利用已知的干扰元素和目标元素的关系，ICP-MS质谱仪厂家，对干扰进行校正。

内标法：使用内标元素来监测和校正信号的变化，以补偿基体效应和其他干扰。

碰撞/反应池技术：利用碰撞/反应池来去除或降低多原子离子、分子离子等干扰。

选择合适的质量数：避免选择受到严重干扰的质量数，或者采用高分辨率质谱仪来区分干扰和目标离子。

优化仪器参数：调整射频功率、离子源气体流量等参数，以减少干扰的影响。

样品前处理：适当的样品前处理方法可以去除干扰物质，ICP-MS质谱仪厂家，如稀释、萃取、净化等。

同位素比值测量：通过测量同位素比值，可以消除一些干扰的影响，海南ICP-MS质谱仪，并提供的分析结果。

质量筛选：利用质量筛选技术，只监测特定质量数范围内的离子，减少干扰的干扰。

数据处理方法：采用合适的数据处理软件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，来校正干扰。

标准加入法：通过添加已知浓度的标准物质到样品中，ICP-MS质谱仪价格，校正基体效应和干扰。

识别和消除干扰需要综合考虑多种方法，并根据具体的分析需求和样品特点选择合适的策略。同时，定期进行质量控制和方法验证也是确保干扰得到有效校正的重要步骤。